Definīcija:a toxic gas used as a fluoride source in plasma processes, for etching polysilicon, silicon nitride, tungsten silicide and tungsten films, and for cleaning of chemical vapour deposition chambers
VVC izstrādātie ķīmijas un ķīmiskās tehnoloģijas termini
36 ZINĀTNE
ENnitrogen trifluoride
LVslāpekļa trifluorīds
VVC izstrādātie transporta, infrastruktūras un sakaru termini